炉式设备-安徽科幂仪器有限公司

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磁力搅拌反应釜机械搅拌反应釜水热反应釜聚酯反应釜平行反应釜中试级反应釜

炉式设备

管式炉箱式炉均相反应器配气设备玻璃炉

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GD系列四路混气系统 GD系列配气设备配气设备型号类型气路数(个) GDT 台式 2~4 ...
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1200系列7.2L真空气氛箱式炉 1200系列7.2L真空气氛箱式炉 1200系列7.2L真空气氛箱式炉采用炉体与智能控温系统一体式设计。加热元件采用三面加热，分布在左、右和顶部，具有升温速率快、温度均匀等优点。采用数显仪表，控温精度高，可减少人为操作误差，提高工作效率。此外设备还配备急停按钮，超温报警功能，提高了设备使用的安全性。加热腔室可用于真空或气氛环境下的物料焙烧。产品参数：项目/ 型号：BFV-1200-7.2L ...
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7.2L桌面式箱式炉 BFC桌面箱式炉 BFC桌面箱式炉采用炉体与智能控温系统一体式设计。加热元件采用三面加热,分布在左、右和顶部，具有升温速率快、温度均匀等优点。采用数显仪表,控温精度高，可减少人为操作误差，提高工作效率。此外设备还配备急停按钮，超温报警功能，提高了设备使用的安全性。产品特点： 1、保温材料采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料,环保节能； 2、采用模糊 PID 控制,控温精...
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球管玻璃炉球管玻璃炉BG350以其独特的设计和简便的操作，为实验室物料的分离纯化工作提供了解决方案。根据配置的不同，可对小量物料进行蒸馏、分馏、升华和冷冻干燥等分离操作。产品使用带有导电涂层的石英管作为加热元件，加热快且易于观察，可以将整个烘炉区域加热到300℃。此外，透明的样品区域便于进行实时观察，如果样品有热降解的迹象,可手动中断加热过程。产品特点：占地空间小；加热时间较短...
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实验级单温区立式管式炉实验级单温区立式管式炉炉体表面温度≤60℃，炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研制的专用理想设备。技术参数：项目/型号：TFV-1200 - 50- 440 产品尺寸： ①炉管外径: 50mm、内径:44mm ②中间布风板：孔径0.1mm ③外形尺寸：460*400*890mm ...
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微型立式管式炉微型立式管式炉： TFV-1200-50-220是一款小型开启式微型立式管式炉，其炉管直径为φ30/50mm可选，适合于对样品在真空或气氛保护环境下吊烧和淬火。如果选用不同的配件与装置搭配，其也可以当作一款流化床立式管式炉来使用，可专门针对粉末表面沉积的CVD实验，此时，在高纯石英炉管内部嵌有石英砂芯，其孔径在5-15um内。烧结的粉末放置在砂芯层上，气体从炉管下端法兰处通入，通过砂芯层使样品颗粒在气流的带动下悬浮在加...
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1700单温区管式炉 1700单温区管式炉是一款小型高温管式炉，其加热元件采用1800级硅钼棒。升温和降温由30段程序进行控制，温度可以达到1700℃。此款高温炉可以广泛地用于材料的烧结或是退火（在真空或是惰性气体保护状态下）。管式炉炉体表面温度≤60℃，炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。1700单温区管式炉专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研...
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1500开启式单温区管式炉 1500开启式单温区管式炉采用硅碳棒为加热元件，额定温度1400℃，设计温度可达1500℃。1500开启式单温区管式炉采用宇电AI-3756P触摸屏控温仪和S型热电偶，可编程30段程序控温，控温精度±1℃。设备中包含一套316L不锈钢快开法兰，双环密封技术，可应用于真空或气氛下烧结、基片镀膜等实验环境。内置双层风冷结构，表面温度≤60℃。法兰两端加配支架，减轻炉管负重，保证炉管使用寿命。技术参数 ...
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微型助力管式炉微型助力管式炉微型助力管式炉炉体与智能控温系统一体式设计。包含了30段升温和降温曲线设置，控温精度达±1°C。炉膛采.用氧化铝多晶纤维材料保温效果好，双层壳体设计，配风冷系统，表面温度低于60°C，可在多种气氛下工作。广泛应用于高等院校、科研院所及工矿企业的气氛烧结、还原、真空退火等科研及生产工作。技术参数型号：TFH - 1200 - 30 - 220 设计温度：...
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1500单温区管式炉产品介绍 1500单温区管式炉采用硅碳棒为加热元件，额定温度1500℃，温度可达1450℃。采用宇电控温仪表和S型热电偶，可编程30段程序控温，控温精度±1℃。设备中包含一套316L不锈钢快开法兰，双环密封技术，可应用于CVD实验、荧光粉制备、真空或气氛下材料烧结、基片镀膜等实验环境。型号：TFH-1500-50-260 设计温度：1450°C (短期) 额定温度：1400°C 推荐升温速率：≤10°C/min ...
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单温区PE-CVD系统单温区PE-CVD系统产品特点：单温区PE-CVD系统采用高性能射频电源，等离子体更稳定；滑轨式结构能使整个反应腔室都处于辉光产生区；可实现快速升温和降温功能；与传统CVD相比较，生长温度更低。技术参数型号：TFE - 1200 - 50 - 220 设计温度：1150℃（短期）额定温度：1100℃ 推荐升温速率：≤10℃/min ...
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微型回转炉微型回转炉 TFR-1200-30 -220是一款小型单温区回转炉，采用双层壳体结构，并带有风冷系统，内部通过电机驱动炉管转动，转速低，旋转更平稳。炉管采用异型石英管，内部焊接有扬料板，可使粉体烧结更加充分和均匀。产品参数型号：TFR - 1200 - 30 -220 适配电源：AC220V 50/60Hz 设计温度：1200℃（短期）额定温度：1100℃ 推荐升温速率：≤10℃/min 控温精度：±1℃ ...
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