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催化剂气氛焙烧活化器
催化剂气氛焙烧活化器,针对催化剂领域的气氛焙烧/活化过程中的客户痛点,如:样品装填与转移不便,不同位置的颗粒处理效果不一致,不同批次的重复性差,粉末迸溅,产物和溶剂无法及时排出,管壁污染与清洗,操作不便,占用空间等等。 科幂自主研发的催化剂气氛焙烧/活化器将带来更好的处理效果和操作体验。 技术参数 型号:TFG-1200-50-220 额定温度:1100℃ 样品池容积:10mL(可定制...
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1700单温区管式炉
1700单温区管式炉是一款小型高温管式炉,其加热元件采用1800级硅钼棒。升温和降温由30段程序进行控制,温度可以达到1700℃。此款高温炉可以广泛地用于材料的烧结或是退火(在真空或是惰性气体保护状态下)。管式炉炉体表面温度≤60℃,炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。1700单温区管式炉专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属,非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研...
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1500开启式单温区管式炉
1500开启式单温区管式炉采用硅碳棒为加热元件,额定温度1400℃,设计温度可达1500℃。1500开启式单温区管式炉采用宇电AI-3756P触摸屏控温仪和S型热电偶,可编程30段程序控温,控温精度±1℃。设备中包含一套316L不锈钢快开法兰,双环密封技术,可应用于真空或气氛下烧结、基片镀膜等实验环境。内置双层风冷结构,表面温度≤60℃。法兰两端加配支架,减轻炉管负重,保证炉管使用寿命。 技术参数 ...
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微型助力管式炉
微型助力管式炉 微型助力管式炉炉体与智能控温系统一体式设计。包含了30段升温和降温曲线设置,控温精度达±1°C。炉膛采.用氧化铝多晶纤维材料保温效果好,双层壳体设计,配风冷系统,表面温度低于60°C,可在多种气氛下工作。广泛应用于高等院校、科研院所及工矿企业的气氛烧结、还原、真空退火等科研及生产工作。 技术参数 型号:TFH - 1200 - 30 - 220 设计温度:...
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实验级助力管式炉
实验级助力管式炉 实验级助力管式炉采用了控制单元和炉膛一体化设计。整体双层风冷结构设计,使表面温度保持在60℃以下。炉膛本身采用了高纯氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型,加热元件为电阻丝。散热系统采用双层风冷结构,炉体表面温度≤60℃。真空腔室采用石英管材质,其贯穿整个炉体,炉管两端选用不锈钢法兰密封,可在真空或气氛环境下工作。加热元件与炉管平行,均匀的分布在炉管外,有效地保证了温场的均...
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1500单温区管式炉
产品介绍 1500单温区管式炉采用硅碳棒为加热元件,额定温度1500℃,温度可达1450℃。采用宇电控温仪表和S型热电偶,可编程30段程序控温,控温精度±1℃。设备中包含一套316L不锈钢快开法兰,双环密封技术,可应用于CVD实验、荧光粉制备、真空或气氛下材料烧结、基片镀膜等实验环境。 型号:TFH-1500-50-260 设计温度:1450°C (短期) 额定温度:1400°C 推荐升温速率:≤10°C/min ...
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单温区PE-CVD系统
单温区PE-CVD系统 产品特点: 单温区PE-CVD系统采用高性能射频电源,等离子体更稳定; 滑轨式结构能使整个反应腔室都处于辉光产生区; 可实现快速升温和降温功能;与传统CVD相比较,生长温度更低。 技术参数 型号:TFE - 1200 - 50 - 220 设计温度:1150℃(短期) 额定温度:1100℃ 推荐升温速率:≤10℃/min ...
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微型回转炉
微型回转炉 TFR-1200-30 -220是一款小型单温区回转炉,采用双层壳体结构,并带有风冷系统,内部通过电机驱动炉管转动,转速低,旋转更平稳。炉管采用异型石英管,内部焊接有扬料板,可使粉体烧结更加充分和均匀。 产品参数 型号:TFR - 1200 - 30 -220 适配电源:AC220V 50/60Hz 设计温度:1200℃(短期) 额定温度:1100℃ 推荐升温速率:≤10℃/min 控温精度:±1℃ ...
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实验级回转炉
TFR回转管式炉 实验级回转炉集控值系统与炉膛于一体。炉膛本身采用高纯氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型,加热元件为电阻丝。散热系统采用双层风冷结构,炉体表面温度 ≤60℃。真空腔室采用石英管材质,其贯穿整个炉体, 炉管两端选用不锈钢法兰密封,可在真空或气氛环境下工作。加热元件与炉管平行,均匀的分布在炉管外,有效地保证了温场的均匀性。两边附有回转机构,使炉管匀速转动,可保证物料充分反应。 ...
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